北京高精度纳米粒度分析仪

CMP(化学机械抛光)工艺中磨料颗粒的高精度粒径表征随着半导体工业飞速发展，电子器件尺寸缩小，要求晶片表面平整度达到纳米级。CMP工艺作为芯片制造业不可或缺的一个部分，其对于磨料的颗粒粒度表征要求十分重要。CMP过程中使用的磨料颗粒典型尺寸范围是10-200nm，其颗粒表征要求精确地确定纳米级颗粒的尺寸，因此高分辨率纳米粒度分析仪是磨料颗粒表征的完美解决方案。磨料对CMP工艺起着至关重要的作用！欢迎选用CPS纳米粒度分析仪为您完美解决磨料颗粒问题！驰光机电科技有限公司生产的设备产品质量上乘。北京高精度纳米粒度分析仪

提供数量、面积和体积等指标的平率分布图和表、累计分布图和表格粒度和粒型参数分布的结果；能够自动产生实验结果world报告。激光和视频分析产生的信息，很容易通过直观的数据报表软件得到。测量结果可以各种表格和图显示出来，这些表格和图可以由用户选择，以便正确显示需要的信息。通过数据挖掘技术，很容易实现数据比较和分析，允许对覆盖图和比较表进行编辑。轻点一下鼠标，就能生成Word格式的样品分析报告，该文件包括样品制备、粒径和粒形结果，还带有图像或视频信息。北京高精度纳米粒度分析仪驰光机电科技有限公司的行业影响力逐年提升。

CPS纳米粒度分析仪操作权限和文件存取安全设置；屏显离心转速控制；高级数据分析功能，包括噪声过滤和分辨率加强。样品应用：地质学，土壤、粘土、沙、高岭土；环境；制药/生化；化学，杀虫剂、分散剂、催化剂、树脂、乳液、防腐剂、颜料、涂料、；陶瓷和金属，铝、硅、磁粉、钨、烧结制品、不锈钢、钴；能源，煤、燃料、浆液、页岩油乳剂；粉煤灰；食品；重工业，聚合物、油滴、磨损颗粒、白垩、填料、调色剂、纸浆/纸、PVC、水泥；生命科学。

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