洁净室厂房

1.适用领域的区别工业洁净室适用于精细机械工业、电子工业、航空航天工业、高纯度化学工业、核能工业、液晶显示器（LCD）、电脑硬盘、磁头等多个行业。生物洁净室适用于制药工业、医院（如手术室、无菌病房）、食品、化妆品、饮料生产、动物实验室、理化检验室、血站等。2.研究对象的区别工业洁净室主要研究灰尘、微粒（只有一次污染）。生物洁净室主要研究微生物、细菌等活的微粒（可能引发二次污染）。3.控制目标的区别工业洁净室的主要目标是控制有害微粒的浓度。生物洁净室的主要目标是控制微生物的产生、繁殖和传播，同时控制其代谢物。4.对生产工艺的危害区别工业洁净室的关键部位只要有一点灰尘就可能对产品造成较大的危害。生物洁净室中有害微生物必须达到一定浓度才能造成危害。中沃电子洁净室，助力食品行业安全升级。洁净室厂房

锂电池洁净室温度范围：25℃；湿度范围：40%RH（涂布室、电极浆料制作室、物料室）；湿度：-40℃（手套箱室、转绕叠片室、注液室）；换气次数：≥15次/小时；新风量：≥30立方/小时/人；静压差：≥5Pa(不同洁净等级区域之间)；静压差：≥10Pa(洁净区域与非洁净区域之间)；尘粒允许数（≥0.5μm）：3500000个；尘粒允许数（≥5μm）：20000个；浮游菌数：≤500个/立方米；沉降菌数：≤10个/立方米；检验方法：GB 50591-2010；超静音；可扩展性宣城化妆品洁净室温湿度控制方面，半导体制造通常要求温度22℃±1℃、湿度45%RH±5%RH。

（一）单向流无尘室/洁净室（1-5级）1-5级的洁净室，均采用单向流的气流组织送风方式，即洁净室内的气流在同一截面的任意一点，气流的方向和速度均保持一致，这样可以使清洁空气象“活塞”一样，将室内的尘埃粒子以快的速度带走。要实现“活塞”的效果，高效过滤器需要布满率在80%以上，才可实现单向流的气流组织方式。（二）非单向流无尘室/洁净室（6-9万级）6-9级无尘室/洁净室的气流组织方向和5级以上的洁净室不同，室内的气流是以不均匀的速度呈不平行流动的，伴有回流或涡流，它主要靠洁净的气流不断稀释室内空气，将室内的污染逐渐排出，来实现净化。不同的净化等级，主要是依靠单位时间内所送风量的不同来实现的。

因为锂电池生产设备较大、产线较长，导致生产车间也相应的空间较大从而制冷负荷大，除湿机组设计选型以及就位地点选择是必须要综合计算全空间内的总湿度和冷负荷，同时考虑到节能减排的需求，站房内应该统一设置冷水机组、泵和换热装置等设备，并且为后期可能的扩产扩建预留管路和阀门，再通过冷冻水管分区输送冷源。 锂电池洁净室主要作用在于控制锂电池产品所接触大气的洁净度及温湿度，使产品能在一个良好环境空间中生产、制造、测试，提升产品质量，是锂电池产品重要的生产保证设施。洁净室需同时控制温湿度与静电，以保障工艺稳定性与产品安全。

十万级洁净室很主要作用在于掌控产品所接触大气的洁净度及温湿度，使产品能在一个良好环境空间中生产、制造、测试，提升产品质量，是污染敏感产品重要的生产保证设施。十万级洁净室主要性能参数：温度范围：18℃~28℃，可调节。尘粒允许数（≥5μm）：20000个。湿度范围：40%~85%，可调节。浮游菌数：≥500个/立方米。换气次数：≥15次/小时。沉降菌数：≥10个/立方米。新风量：≥30立方/小时/人。检验方法：GB50591-2010静压差：≥5Pa（不同洁净等级区域之间）。完美的外观、合理的设计。静压差：≥10Pa(洁净区域与非洁净区域之间）。使用的安全及高可靠性。尘粒允许数（≥0.5μm）：3500000个。超静音。可扩展性中沃电子洁净室，助力半导体产业升级。洁净室厂房

中沃电子以科技赋能，打造高标准洁净空间。洁净室厂房

洁净室在半导体制造中的关键作用半导体制造对洁净度的要求堪称严苛，洁净室是保障芯片良率的设施。在晶圆加工过程中，光刻、蚀刻、薄膜沉积等工序需在ISO1-3级洁净室中进行，因为空气中微粒会直接污染晶圆表面，导致电路短路或开路。例如，某12英寸晶圆厂的光刻车间采用ISO1级洁净室，通过垂直单向流（层流）设计，使空气以0.45m/s的速度垂直向动，将微粒携带至地面回风口；同时，车间内所有设备（如光刻机、涂胶显影机）均采用密闭设计，避免内部机械运动产生微粒外泄。数据显示，在普通环境中生产的芯片良率30%，而在ISO1级洁净室中可提升至85%以上。此外，洁净室还需控制化学污染物（如氨气、有机蒸气），通过活性炭过滤器与化学过滤系统，将关键工序区域的化学污染物浓度控制在ppb（十亿分之一）级别，防止对晶圆表面造成化学腐蚀。洁净室厂房