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国内金相磨抛机

来源: 发布时间:2025年08月06日

纵观国内外抛光机的状况,国内研发的抛光机在性能和外观等方面还存在一定差距二例如,国内研制的抛光机多数机型的抛光盘为单盘或双盘,有水龙头,但冷却条件差由于冷却条件差,试样表面易发热变灰暗,而且会继续增厚形变扰动层,对快速抛光好试样带来麻烦;抛光盘转速固定不变,而金相试样制备过程不允许组织变形,软相(石墨)脱落,硬相(碳化物)浮凸,抛光后试样表面应光亮如镜、无磨痕。为此,赋耘根据不同性质的材料,需采取不同措施,研制的全自动抛光机,能够自动控制冷却液的流量,整个操作过程采用全自动化模式,节省了人工并有效地提高了研究效率与质量。


赋耘金相磨抛机不同型号的功能差异及适用场景?国内金相磨抛机

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金相研磨抛光的自动设备,兼具手动模式,应用灵活。可编程,兼容自动给液系统,实现全程自动控制。以变径环调整卡具尺寸,可同时夹持6个样品,适用于各种材料的金相研磨和金相抛光。全自动研磨抛光机,可以使用手动模式超大彩色触摸屏,清晰,易于操作可以预设/存储5组*12个步骤/组的程序,方便多种材料的研究自动头气动限位设定,在自动模式下,使砂纸、抛光布的利用率更高磨盘转速可调,转向可顺时针或逆时针动力头转速可调,转向可顺时针或逆时针研磨、抛光后动力头可自动复位冷却水喷嘴可转向、可伸缩兼容自动给液系统,自动给液系统有抛光液回流功能,防止给液管堵塞简洁、方便的排水系统夹具可夹持6个样品,直径40mm防腐处理的碗型内衬防腐处理的钢体机身,坚固耐用自带防溅罩、防尘盖中心压力、单点压力两种运行模式,可根据工况选择合适的方式!试样夹盘可快速装卸转换,灵活使用不同口径夹盘!磁性盘设计,支持快速换盘,垫板喷涂特氟龙,更换砂纸抛布无残留!采用高清LCD触摸屏操控和显示,操作简便,清晰直观!自动研磨系统,可定时定速,水系统自动启闭功能,有效代替手工磨抛!全自动款可存储十多种磨抛程序,针对不同试样,设置不同的参数!


国内金相磨抛机半自动金相磨抛机的参数设置!

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机械抛光可以采用相对简单的系统,使不同的设备达到高度自动抛光的程度,如图25。相对应的有微型计算机或微处理器控制的设备,如图26。设备的能力各不相同,从支持单个试样的设备到支持六个试样的设备,甚至更多试样的设备都可用于研磨和抛光步骤。其中有两种方式比较接近手工制备试样。中心加载,利用试样夹持器,试样被紧紧夹持不动。试样夹持器带着试样向下压,向下载荷被施加在整个试样夹持器。中心加载能获得比较好的表面平整度和边缘保持度。腐蚀之后,如果发现结果不好,那么试样必须放回试样夹持器,所有的制备步骤必须重复进行。为了替代重复进行所有的制备步骤,许多金相工作者只手工重复步骤,然后重新腐蚀试样。第二种方法,利用试样夹持器,但试样宽松的放在试样夹持器里。载荷通过单独的活塞拄施加到每个试样上,这样每个试样上的压力都不同。这种方法对制备过程中的表面检查来说,比较方便,检查之后也没有要把所有试样恢复到同一表面的问题。另外,如果腐蚀之后的结果不好,由于试样都是单独而非整体的表面,所以试样可以放回试样夹持器重复步骤。这种方法的缺点是有时会有轻微的摇摆,特别是当试样太高时,试样的表面平整度和边缘保持度就会降低。


   金相研磨抛光的自动设备,兼具手动模式,应用灵活。可编程,兼容自动给液系统,实现全程自动控制。以变径环调整卡具尺寸,可同时夹持6个样品,适用于各种材料的金相研磨和金相抛光。全自动研磨抛光机,可以使用手动模式超大彩色触摸屏,清晰,易于操作可以预设/存储5组*12个步骤/组的程序,方便多种材料的研究自动头气动限位设定,在自动模式下,使砂纸、抛光布的利用率更高磨盘转速可调,转向可顺时针或逆时针动力头转速可调,转向可顺时针或逆时针研磨、抛光后动力头可自动复位冷却水喷嘴可转向、可伸缩兼容自动给液系统,自动给液系统有抛光液回流功能,防止给液管堵塞简洁、方便的排水系统夹具可夹持6个样品,直径40mm防腐处理的碗型内衬防腐处理的钢体机身,坚固耐用自带防溅罩、防尘盖中心压力、单点压力两种运行模式,可根据工况选择合适的方式!试样夹盘可快速装卸转换,灵活使用不同口径夹盘!磁性盘设计,支持快速换盘,垫板喷涂特氟龙,更换砂纸抛布无残留!采用高清LCD触摸屏操控和显示,操作简便,清晰直观!自动研磨系统,可定时定速,水系统自动启闭功能,有效代替手工磨抛!全自动款可存储十多种磨抛程序,针对不同试样,设置不同的参数!金相磨抛机可进行的实验内容。

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   金相研磨机磨盘直径有200mm、230mm、250mm、300mm可选!大直径的研磨盘会增加试样在给定时间内的运动距离。例如,转速一样时,试样在直径10英寸或直径12英寸(250或300mm)研磨盘上的运动距离,分别是在8英寸(200mm)直径研磨盘上运动距离。因此当使用10英寸或12英寸(250或300mm)研磨盘时,建议将时间减少为8英寸(200mm)研磨盘的80%或67%。大直径的研磨机的试样制备时间要短,但耗材消耗稍多,所以大直径的研磨机更适合试样数量多试样尺寸大的地方使用。为了达到粗抛的目的,要求转盘转速较低,比较好不要超过500r/min;抛光时间应当比去掉划痕所需的时间长些,因为还要去掉变形层。粗抛后磨面光滑,但黯淡无光,在显微镜下观察有均匀细致的磨痕,有待精抛除去。精抛时转盘速度可适当提高,抛光时间以抛掉粗抛的损伤层为宜。精抛后磨面明亮如镜,在显微镜明视场条件下看不到划痕,但在相衬照明条件下则仍可见到磨痕。金相试样抛光质量的好坏严重影响试样的组织结构,已逐步引起有关人员的重视。近年来,国内外在抛光机的性能上作了大量的研究工作,研究出不少新机型、新一代的抛光设备,正由原来的手动操作发展成为各种各样的半自动及全自动抛光机。赋耘磨抛机的启动和停止操作规范及注意要点?国内金相磨抛机

金相磨抛机辅助夹持装置。国内金相磨抛机

  金相研磨机磨盘直径有200mm、230mm、250mm、300mm可选!大直径的研磨盘会增加试样在给定时间内的运动距离。例如,转速一样时,试样在直径10英寸或直径12英寸(250或300mm)研磨盘上的运动距离,分别是在8英寸(200mm)直径研磨盘上运动距离的。因此当使用10英寸或12英寸(250或300mm)研磨盘时,建议将时间减少为8英寸(200mm)研磨盘的80%或67%。大直径的研磨机的试样制备时间要短,但耗材消耗稍多,所以大直径的研磨机更适合试样数量多试样尺寸大的地方使用。纯铜是一种非常延展可锻的金属。铜和铜合金的成分范围很广,从各种近似纯铜的电器产品到合金程度较高的黄铜和青铜以及可沉淀硬化的铜合金。铜和铜合金在粗切和粗研磨时很容易损伤,并且损伤的深度相对较深。对纯铜和黄铜合金,去除划痕非常困难。紧随之后利用硅胶进行的短时间震动抛光去除划痕非常有效。以前,利用侵蚀抛光剂去除划痕,但现代这就不是必须的了,现代都用震动抛光来去除划痕。国内金相磨抛机

标签: 抛光液