辉光放电光谱/质谱二者对样品有什么要求呢？

杭州博测材料科技有限公司2025-08-08

直流GD-OES/MS： 必须为导体（电阻率<0.1 Ω·cm）。 金属/合金（钢、铝、铜等）：直接分析，溅射稳定； 半导体（硅、锗）：需高功率（>40 W）维持放电； 绝缘体（陶瓷、玻璃、塑料）：需射频模式（RF-GD）或表面镀导电膜（金/石墨层>50 nm）。 射频GD： 可分析绝缘体，但要求： 厚度>100 μm（避免击穿）； 表面平整（粗糙度<1 μm），否则自偏压不均导致溅射坑畸变。

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