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POCl₃扩散时,硅片表面需要做哪些预处理?

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赛瑞达智能电子装备(无锡)有限公司2025-07-16

硅片在 POCl₃扩散前需经过严格预处理。首先要进行清洗,去除表面的油污、尘埃和金属杂质,通常用酸性或碱性溶液超声清洗,再用去离子水冲洗干净,避免杂质影响扩散均匀性。其次,部分工艺会进行氧化处理,在硅片表面生成一层薄二氧化硅膜,这层膜能帮助磷原子更均匀地扩散,还能减少硅片表面损伤。预处理的质量直接影响后续扩散效果,需严格控制清洗时间、温度和溶液浓度。

赛瑞达智能电子装备(无锡)有限公司
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简介:赛瑞达成立于2021年,专注于半导体设备的研发、生产与销售。公司位于无锡,致力于提供定制化解决方案。
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赛瑞达致力于成为半导体装备的主导品牌。
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